台灣積體電路製造股份有限公司12廠7期 陳威存

 

1.參選類別

 

廢水處理專責人員


2.現職(參選時之職位)

 

工程師


3.個人工作內容摘要

1.廢水處理系統操作與維護

2.廢水處理系統效率增進與改善

3.降低排放廢水污染物濃度、減少廢水總量

4.廢棄物資源化

4.公司簡介

台積公司於民國七十六年在新竹科學園區成立,為一專業積體電路製造服務公司。身為業界的創始者與領導者與全球規模最大專業積體電路製造公司,除在專業積體電路製造服務本業中謀求最大成就,同時也善盡企業公民責任,積極與員工、股東、客戶、子公司、合資公司、供應商、社會等利害關係人建立良好互動,共同追求永續未來。
台積公司為提高水資源的使用效率,將純水設備及製程機台的排放水依照其純淨程度分級,最乾淨者優先循環純化回製程使用;次之者經水回收設備處理後,做為非製程次級用水;最後,無法回收使用的廢水則排至廠區內設置的廢水處理廠進行終端廢水處理。台積公司著重建置各種用水回收系統,將可再次使用的水經過精製後循環使用,藉此層層循環再利用模式提高廠內回收水量,不輕易浪費一滴水。民國106 年度製程用水回收率平均達87.5%,不僅優於園區管理局規範85%,更優於前年度回收成果,成功突破因隨先進製程發展而使用水量同步增加的困境。民國106 年,持續執行既有節水措施並加上15 項新增節水措施,使得總回收水量達103.4 百萬公噸,相當於3.2 座寶二水庫。


5.具體事蹟

(以個人貢獻為主,在專責類別上對公司及環境之事蹟,必須有量化或具體事證,所述內容應參照評選項目,包含:1.法規規定應執行業務辦理情形,2.污染改善措施、具體效益及對任職機構之貢獻)

 

台灣積體電路公司十二廠第七期(以下簡稱為本廠)設置廢水系統,理當要將放流廢水處理達到法規許可排放標準,更為了台灣的環境著想,本廠逐年皆訂定與執行排放污染減量之目標。盡到台灣產業技術領頭羊應有的責任。

為了達到上述目標,本廠將現有處理單元優化、引進最新處理技術、污水重複精煉,藉以達到提升放流水水質、最大化回收水水量之目標。

1.放流水污染減量-氨氮減量專案:

未來科管局氨氮納管標準研擬由30 ppm降至20 ppm,本廠針對氨氮來源進行質量平衡,確認來源濃度,尋找機會點改善,不僅要將氨氮降低至納管標準下,更期望能更進一步減少排放量。為了減少降低廠區放流氨氮,由專責單位主管本人設立專案小組,分成四階段執行,來源氨氮濃度質平、普查廠內機台drain管排放狀態、機台內部設定修正調整、次氯酸水設備建置。

1.1來源氨氮濃度質量平衡調查: 對廠區內所有廢水全盤取樣,確認氨氮主要來源為HFD及AWD drain占大宗(圖一),針對廠內所有HFD及AWD drain取樣分析,並鎖定特定濃度較高機台進行調查(圖二)。

1.2普查廠內機台drain管排放狀態: 發現部分機台進行CWD drain排放時延遲關閉功能無上線(圖三),造成部分CWD(含氨廢水)排入HFD,及部分機台管路配置錯誤,應為排放至CWD Drain,卻配置為AWD。機台設定及排放管路配置分流問題導致AWD及HFD氨氮濃度占比較高。

1.3機台內部設定修正: 為減少含氨廢水排放至HFD,將機台CWD drain delay time延長,經實驗檢測結果得知大於12秒可得到較低氨氮濃度流入HFD Drain(圖四),因此修正機台CWD drain delay time大於12秒,此舉使HF System氨氮濃度由45 ppm下降至27 ppm、放流水氨氮濃度由20 ppm下降至16 ppm。

1.4次氯酸水合成設備建置:因製程recipe變化,使用藥劑(SC1)氨水濃度提升,DI flush 時間不足,導致非鹼性drain含氨氮濃度亦增加。為解決放流水氨氮問題,測試次氯酸水合成模組設備,評估去除水中氨氮效果。於廠內連續流測試可將HF system 氨氮去除達97%(圖五及圖六),減少放流水氨氮濃度。

2.放流水污染減量-COD減量

2.1隨著製程演進,有機物化學品使用量逐漸增加,貢獻廠區排放水COD濃度中以異丙醇(IPA)為大宗。異丙醇在水體與氧化性物質反應後容易產生之丙酮,也是需要處理的項目之一。為了減少廠區放流COD,本人於2017年參與執行源頭分流管理、中段IPA廢水回收、末端新建COD生物系統處理系統。

本人於2020年已完成生物處理系統之建置,能持續、穩定將放流水COD控制於400ppm以下,已達科管局列管標準。

生物系統設計去除COD當量為4050 COD-kg/day,系統正式啟用後去除廢水COD 當量約1400 COD-kg/day,仍有約2600 COD-kg/day之裕度,可以導入其他廢水並去除水中COD,達到放流COD進一步減量之成效。

經評估後,廠區內鹼性廢水(CWD)中COD濃度高、水量少,水中之氨氮亦可作為生物處理系統所需之氮源,每天COD當量約675 COD-kg/day,規劃導入,並在導入後放流COD濃度從400ppm下降至350ppm。

3.放流水導電度降低

本廠廢水處理系統調整酸鹼、添加各種藥劑進行廢水水質管控,但每種藥劑的添加,都會提升廢水導電度,檢視全廠區加藥與系統處理後進行加藥的最佳化,並將較乾淨的廢液分流後取代pH調整藥劑,詳細敘述如下:

3.1純水系統再生廢液酸鹼分流(降低7%)

本廠純水系統使用樹脂塔精煉來源水,樹脂塔再生分別使用鹽酸、氫氧化鈉,兩者一同收入蒐集槽,混合後調整pH後外排。純水再生廢水比起回收水與其他廢水處理系統相對乾淨,且酸鹼值強,可以代替其他系統桶pH調勻,故將鹼性廢水導入酸鹼中和系統;將酸性廢水導入氫氟酸系統。

一日可以節省900公斤的硫酸、3,000公斤的氯化鈣與1,000公斤的氫氧化鈉,並降低總放流水導電度500us/cm,約占總導電度的7%

3.2HF CaCl2加藥減量(降低12%)

本廠透過添加CaCl2與HF反應成CaF2(S)沉澱後去除水中F離子,沉澱法出口F離子濃度從20ppm下降至15ppm時Ca/F比上升50%,為了避免過多的CaCl2添加,將系統出口控制點由15ppm更改至20ppm,CaCl2用量預估減少1000kg/day 。

但隨著系統出口控制點上調,對放流有負面的影響,為了能維持放流F離子維持不變,將來源水經RO濃縮後進入系統,再從機台分流改善,增加進入系統之F離子當量,成功的維持放流濃度不變。

觀察系統發現影響CaCl2用量第二個原因為HF系統中有大量的雙氧水,因雙氧水產生氣泡降低斜板沉降效率,為了使沉降速率增加,大量添加CaCl2使其產生其他鈣鹽沉澱物,加速系統沉澱。

若要讓系統能更好的固液分離,好的辦法是去除水中的雙氧水,避免其氣泡將污泥揚起造成出口F離子增高現象,故設計氯化亞鐵添加於系統去除雙氧水,降低氣泡干擾斜板沉澱,進而降低氯化鈣用量(圖 ,CaCl2用量預估減少5000 kg/day 。

3.3含銅研磨廢液回收系統 pH 調整用藥、再生廢水減量(降低2%)

巡查系統發現含銅研磨廢液回收系統(CCR)因pH調整槽液位較低,導致些微來源水造成桶槽pH變化較大,添加液鹼後pH上升,導致系統再次添加硫酸調降pH,以上循環來回造成不必要的藥品損失。本人將液位從30%上修至70%後,可以有效的避免pH調整來回加藥,預估節省液鹼100kg/day、硫酸15kg/day。

因CCR系統使用陽離子樹脂須定期進行再生,又因pH來回加藥造成陽離子樹脂吸附大量Na+離子,導致再生週期劇烈縮短,pH調整槽問題解決後可以將再生周期從4小時延長至8小時,預估可節省硫酸1000 kg/day。

 

4.放流水污染減量-介面活性劑(Surfactant)減量

設備使用顯影清洗液為一種介面活性劑(Surfactant),其中一成分為3M NOVEC 4205,屬於4碳全氟烷化合物,在水體自然分解時間大於40天,目前中華民國法規僅管制7碳以上全氟烷化合物,但基於防範未然,本廠區仍決議新設活性碳處理系統(圖十一),以活性碳吸附Surfactant,吸附飽和後更換活性碳濾材,換下的活性碳濾材將運送至處理商,以800oC高溫裂解後再利用,藉以達成外排Surfactant零排放。

5.C/S SEX Drain回收再利用

5.1Central Scrubber(C/S) 空污改善與廢水回收

F12P7  C/S使用雙槽設計,第一槽主要洗下NH4+(Avg. : 200 ppm)須排入AEX system,但12P7因空污改善,須增加C/S洗滌水使用量,造成C/S鹼性排水量增加(61→121 CMD)(圖十二),超過原AEX System Capacity(96 CMD),致運轉與原設計容量不符,影響系統Capacity。

故將超過AEX Capacity 部分導入CWD系統進行處理。而C/S排水量增加造成NH4+濃度降低,若導入CWD系統處理(第一次改善)造成MD酸側吸水增加,降低硫酸銨濃度。經評估水質後,將C/S鹼性排水導回CWR系統(第二次改善)(圖十三) ,具有下列優點:

1. 回收水量121 CMD,可節省 1.5 M NTD/yr.(廢水20元/噸,自來水12.8元/噸)

2. 提升硫酸銨成品濃度,減少廢棄物清運量。

3. 提供C/S更大排水Capacity改善空污

5.2前瞻計畫,防範未然

C/S排水全數導入CWR會讓capacity由84%→90%。但空污精進勢在必行,預估未來可能進一步增加用水量,為隨時能支援空污改善,新增CWR RO增加系統Capacity 1296 CMD。

6.硫酸銨乾燥系統建置

6.1放流氨氮主要來源,分別為AEX、TBE、CWD、HFDR排放水量共計1900 CMD,若無設置氨氮處理系統,放流水氨氮濃度約為277 ppm。tsmc針對高濃度廢水建置脫氣膜氨氮處理系統:F12P7設置費用NT$1.68億,去除水體氨氮675噸/年,脫氣膜處理過程產生副產物液態硫酸銨8030噸/年(濃度約35%),系統設置後放流水氨氮濃度小於20ppm。為達廢棄物減量,tsmc於F12P7建置Capacity 96噸/天的硫酸銨乾燥系統,可將竹科目前72噸/天硫酸銨廢棄物,精煉為24噸/天的硫酸銨結晶成品,節省清運費用,另有販售成品收益 (圖十四)。

6.2硫酸銨乾燥系統概略流程如圖十五,主要單元分別為:

DTB結晶罐-在結晶罐設置內導流筒,形成循環通道,使晶漿有良好的混合條件,在蒸發結晶中能迅速消除過飽和度,使溶液的過飽和度處於比較低的水平。適用於溶解度曲線比較陡的產品。

震動流化床-物料由螺旋進料口進入機內,在振動力作用下,物料沿水流方向拋擲向前連續運動,熱風向上穿過流化床與濕物料換熱後,濕空氣經旋風分離器除塵後排出,乾燥物料由排料口排出。

振動篩-以振動馬達作為振動源,通過傳動裝置將電能轉化為機械能,篩箱內裝有不同規格的篩網,通過篩框的震動,使不同粒徑物料從特定出料口排出,達到篩分的目的。

7.含鈷金屬(Co)廢水提煉資源化

台積12廠P7為處理含鈷製程之排放水,由機台排出高低濃度含鈷廢水分別以委外清運及混合CuCMP處理。2019年Co納入竹科科管局放流標準(<1ppm),為妥善處理含Co廢水對於放流水之衝擊,故針對含Co廢水設計螯合樹脂系統處理含Co廢水;再針對再生提濃硫酸鈷廢液(Co濃度約1%)以電解還原方式還原出Co金屬(圖十六)。除了達到零排放,更可提高附加價值以及資源活化。並確保放流水鈷零檢出。將可達到硫酸鈷零清運,鈷金屬之資源化。達到企業與環境雙贏(Win-Win)之目標。

含鈷廢水回收資源化,電解還原的原理為在電解溶液裡面擺入陽極與陰極,藉由使用直流電,金屬離子在陰極表面得到電子還原成金屬成品。而陽極的部分則會隨著電解溶液的不同而會產生不同之氣體。電解溶液主要分為氯化鹽類以及硫酸鹽類兩種。從文獻上使用氯化鹽類電解溶液,跟硫酸鹽類相比有著電流密度較大,導電性較好,電能消耗較少的優點。但是缺點是在陽極會產生氯氣(Cl2),跟硫酸鹽類在陽極產生氧氣(O2) 比較,對於人員操作風險較高,也有衍生有害物質需加裝防制設備之困擾。此外台積廠務自2014起已利用去除雙氧水(H2O2)之廢硫酸取代目前鹽酸(HCl)執行回收水系統之樹脂再生,故考量廠區內已有廢硫酸鈷電鍍液處理需求,廢液人員與環境之安全以及未來系統之應用,我們選擇用硫酸鈷溶液。