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本案投資金額為新台幣1.7億元，投資人包括日商東京應化工業株式會社(TOKYO OHKA KOGYO Co., Ltd.)、長春石油化學股份有限公司。日本TOK公司總部設在日本Kawasaki，主要為電子材料和處理設備製造和銷售。目前半導體光阻劑 (Photo Resist)技術主要為KrF和ArF，TOK 市佔率世界第二，本案是東京應化第一家在海外以合資方式設立的光阻劑生產據點。
光阻將隨半導體技術演進而改變，依光源的不同，則可區分為紫外線(UV)、深紫外線(Deep UV, DUV)和超紫外線 (Extreme UV, EUV)三種。和紫外線搭配的為g-line (436nm)和i-line(365nm)光阻劑，主要用於180奈米之前的製程；和深紫外線(DUV)搭配的為KrF(248nm)與 ArF(193nm)光阻劑。KrF光阻劑應用於180-130奈米的製程，ArF光阻劑應用於130-30奈米的製程。若能藉助本案的機會讓我國廠商學習高階光阻的技術並累積經驗，對未來產品的研發應有相當的助益。
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台灣東應化股份有限公司