項次 |
表格類別 |
常見問題 |
問題解答 |
1
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許可申請檢核表
(表AP-Z)
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1. |
依填表說明要求保證書應由申請人簽署,若遇申請人非負責人者,需檢附授權書。 |
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1. |
申請資料列表中各表單之頁次,應參照檢附之污染防制措施說明書填寫對應之頁次。 |
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1. |
應總計該次申請案之各項空氣污染物之總排放量後填寫申報。 |
2. |
若單一污染物排放量超過園區總量核配量,需重新申請總量核配。 |
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2
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基本資料表
(表C)
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1. |
園區內所屬各項污染物之防制區級數皆為二級,只有PM2.5為三級。 |
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1. |
應填寫公私場所所適用之空氣污染防制相關法規。 |
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3
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製程資料表
(表AP-M)
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1. |
原物料代碼應參照環保署公佈之代碼表填寫,儘量不以「其他」之物料代碼填寫,應以較相符之代碼為優先。 |
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4
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製程說明表
(表AP-M續一)
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1. |
製程流程圖中物料流向應以實線表示,廢氣流向則以虛線表示;酸鹼、VOCs等不同類別之污染物建議以不同虛線標示。 |
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1. |
廢氣流向應與表AP-G之污染源、防制設備、排放管道等欄位一致。 |
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5
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污染防制/計畫 目標
(表AP-G)
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1. |
屬各行業標準規範者,應填寫其適用之排放標準,另依固定污染源空氣污染物排放標準第七條計算者(應於表AP-P(續一)詳列計算),如有加嚴標準者,應載明。 |
2. |
所有標準規範應符合之條件,除需經同意核定外,所有條件之標準皆應填入。 |
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1. |
屬備用之排放管道,為不重複計算,不需填寫其排放量。 |
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1. |
應與表AP-A登載效率一致,屬多管道出口者,應計算出口端總排放量與入口端排放量之比值,方不致高估處理效率。 |
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1. |
若防制設備預設為備用,其污染物處理效能不應低於現行運轉設備效能。 |
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6
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製程設備資料表
(表AP-E)
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1. |
若設備不需中斷操作即可進行進料或出料者為連續式,反之為批次式;並應於單位中就小時與批擇一劃去,以示區分。 |
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3. |
原物料使用量、產品產量等鍵入數值為0.001或更小者。 |
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1. |
應更換為較小之計量單位(如原公噸改為公斤、原公斤改為公克…等)鍵入,另AP-M與AP-E兩表中同一物料之單位應一致。 |
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7
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防制設備資料表
(表AP-A)
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1. |
應依設備功能計算書計算更換頻率及濾材更換量。 |
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2. |
未符合半導體/光電行業別標準規定應設監測設施。 |
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1. |
屬個別行業法規標準規範者,應依規定設置相關監測設施。 |
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1. |
應以實際操作並能確保防制設備妥善運作之狀況填寫申報操作範圍值,而非以大於或小於表示。 |
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5. |
防制設備污染物處理效率不應以法定之最低限值填寫。 |
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1. |
應以設備為在最佳運作狀況下所該有的效率填寫,設計效率依功能說明書所設計資料填入,實際效率請參考檢測之資料評估。 |
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8
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排放管道基本資料表
(表AP-P)
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1. |
應向所在地環保局申請煙道1.5D/0.5D設置核備函。 |
2. |
屬新設製程排放管道採1.5D/0.5D設置者,依建築技術規則規定具電梯廠房其排放管道高度需達9公尺以上。 |
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1. |
應設置採樣孔、安全採樣平台、扶梯及足供使用之水電設施及其他必要器材符合採樣設施規範之規定。 |
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1. |
依「檢查鑑定公私場所空氣污染物排放狀況之採樣設施規範」,未能符合相關規範者,皆應向所在地環保局申請相關核備函。 |
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9 |
排放管道設置狀況資料表(表AP-P續一)
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1. |
半導體業排放標準為規定全廠總排放量之計算問題。 |
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1. |
半導體業排放標準雖為規定全廠總排放量,於計算排放管道煙流高度時仍以該標準計算(如硝酸為0.6kg/hr…),不能將其除以管道數後再計算;另硫酸因檢測採樣方法為硫酸液滴之方法,故其計算仍需以硫酸液滴之標準計算。 |
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10
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檢驗測定機構基本資料表
(表AP-AT3)
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1. |
檢測方法應為環保署環檢所公告最新之NIEA檢測方法(可於環檢所網站查詢)。 |
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11
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排放管道檢測資料表
(表AT-AT5)
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1. |
屬各行業標準規範者,應符合其特定之採樣次數及時間限值。 |
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1. |
內徑大於56公分,採樣孔距上下游擾流區距離未符合8D/2D者,採樣點數應為20點。 |
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12
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許可管理
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1. |
固定污染源設置與操作許可證記載之內容是否得有容許差值? |
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1. |
依管理辦法第9條規定許可證記載之各項許可條件或數值,於未超過固定污染源空氣污染防制設施最大處理容量,且符合排放標準及本法相關管制規定者,得有百分之十之容許差值。 |
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2. |
因經營公司更換應否重新申請設置或操作許可證? |
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1. |
公私場所經營權更換時,許可證內容除變動基本資料外,其餘製程、污染源及防制設備等均與原許可證內容相同,則新公司得直接以申請操作許可換發之方式取得新證;倘變動內容涉及許可證變更者,則視為新設污染源,應重新申請設置及操作許可證。 |
2. |
前述換發之條件申請,因新公司「固定污染源管理資訊系統」中並無原許可證登載之製程、污染源及防制設備等相關資料,故應先與環保局辦理系統資料轉換作業,環保署系統端於接獲相關轉換通知後會於每月系統維修時一併進行轉換,待轉換完成後,系統中方有資料可提出換發申請。 |
3. |
前述辦理系統資料轉換作業需求,轉入對象內應無任何許可建置資料;若將相鄰公司併入擴廠,「固定污染源管理資訊系統」中已有許可資料建置,將無法進行轉換,資料應由業者自行建置。 |
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3. |
申請異動時間已接近於展延的時間,可否一併辦理許可異動及展延? |
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1. |
申請許可異動之日期已近許可證有效期限,倘欲於許可證期限屆滿後繼續操作,除提出異動許可申請外,亦宜依規定期限一併提出許可證展延申請,俟異動申請經審核通過後,依異動後之操作條件進行操作,否則應依原操作許可證之操作條件進行操作。 |
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4. |
公私場所已取得設置許可證但尚未取得操作許可證,倘其從事機械保養、運轉之操作試車作業,是否違反空污法? |
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1. |
僅取得設置許可證而尚未取得操作許可證,依法不得操作及排放空氣污染物,其進行機械保養、運轉等作業,依前揭規定,其是否涉及違反空污法,應視該作業是否產生空氣污染物而定。倘有產生空氣污染物之情形時,則屬違反空污法相關規定,若遭主管機關查獲可能受到處分。 |
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5. |
防制設備操作條件瞬間值未落在許可證條件範圍內是否違法? |
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1. |
固定污染源應依許可證書上核定污染源及相關設備操作條件操作以維持設備正常運轉,其實際操作值應不得超出許可證記載之許可數值10%之容許差值。 |
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13
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排放量推估
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1. |
若所提空氣污染物排放檢測結果低於方法偵測極限以下,應如何推估其年許可排放量? |
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1. |
倘公私場所所提固定污染源空氣污染物排放檢測結果係低於方法偵測極限以下,則顯示受測污染源空氣污染物排放濃度遠低於標準規定之排放限值以下,至無法量測到之程度,排放至大氣之空氣污染物數量極為輕微,對空氣品質影響並不大,可忽略不計算,故核發該固定污染源操作許可證時,其年許可排放量得依檢測結果註明亦應在方法偵測極限以下作為規範。 |
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14
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檢測作業
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1. |
固定污染源緊急排放管道是否可免進行許可檢測? |
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1. |
依空污法第22條第2項規定,經指定公告應設置連續自動監測設施以外之污染源,主管機關認為有必要時得命其自行或委託檢驗測定機構檢驗測定。上述檢驗測定一般係指污染源於製程、設備正常操作情形下所為之檢測作業,故固定污染源於辦理操作許可時,針對污染源異常或故障期間方有污染排放之緊急排放管道得准免進行檢測。 |
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2. |
同一公私場所有數個相同之固定污染源,其排放管道口徑不一致,申請操作許可或定期實施之污染源檢測是否可擇一進行檢測? |
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1. |
過去半導體及光電業多有依「固定污染源自行或委託檢測及申報管理辦法」第5條規定予以擇一定數量進行定檢者,近來經環保署檢討發現,因其排放管道採效率標準或全廠總排放量標準,若僅擇部分管道進行檢測,其結果無法代表其餘未受測之管道皆符合法令要求,故不應擇一定數量進行檢測。惟公私場所仍得提具替代方案(如:監測各排放管道風量及操作條件確認一致性)報經所在地環保局同意後,據以施行。 |
2. |
若確有擇一定數量進行檢測之需求,請於許可申請前先行向所在地環保局發文申請認可(過去未取得環保局核備函者亦需重新申請),以免影響後續許可審查核發期程。未能取得核備函者,需依規定全數進行檢測。 |
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3. |
沸石濃縮轉輪吸附系統使用燃料是否於操作試車時檢測氮氧化物? |
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1. |
因地方主管機關徵收空污費污染物氮氧化物及硫氧化物之費用,故沸石濃縮轉輪有使用燃料(如天然氣)之廠商,在操作試車時須檢測氮氧化物及硫氧化物,並納入許可核發。 |
2. |
另依公告「固定污染源空氣污染防制費收費費率」,若有使用該公告附表二中13種個別物種之揮發性有機物者,亦須於操作試車時進行檢測,於操作試車後提送相關污染物檢測報告核定排放量於操作許可內。 |
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15
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連續自動監測
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1. |
光電業達法規「光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準」第七條第一項時,是否需於操作試車後提送連續監測報告書? |
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1. |
依該標準規定,揮發性有機物許可排放量達1.3kg/hr以上,其廢氣導入處及排放口應設置連續自動監測設施。 |
2. |
依「固定污染源空氣污染物連續自動監測設施管理辦法」第7條第1項第3款規定,公私場所具有經中央主管機指定公告應設置監測設施之固定污染源,應於申請設置許可證時應併提報監測設施設置計畫書;於申請操作許可證時應併提報監測措施說明書,並應於提報空氣污染物排放檢測報告時併提報監測設施確認報告書。相關資料應向地方主管機關辦理。 |
3. |
綜上所述,園區內事業符合上述規定者,請於申請時逕向地方環保署申請連續自動監測設施相關文件,待核定後併同相關許可申請文件,向管理局申請固定污染源許可。 |
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16
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公告對象判定
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1. |
公私場所製程原料及產品為使用揮發性有機物超過20公噸者,是否需申請許可證? |
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1. |
依廠商製程提供之原物料項目及溶劑使用量,即符合法規「第一批至第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源」第八批第二類有機溶劑作業程序,故請依此申請設置及操作許可。 |
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2. |
公私場所製程若為導線架製作,而製造過程中僅為半成品電鍍作業,是否歸類於半導體行業? |
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1. |
依法規「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條第一項規定,其定義為:『半導體製造業:指從事積體電路晶圓製造、晶圓封裝、磊晶、光罩製造、導線架製造等作業者』,因廠商為導線架製作,故仍屬於半導體製程。 |
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