|
|
力晶於1994年12月創立於新竹科學園區，現為國內外各大半導體業者提供專業晶圓代工服務，擁有4,500位員工，資本額新台幣222億元。
設立之初，力晶即與日本三菱電機締結技術、生產與銷售的策略聯盟；2003年開始和日本DRAM大廠爾必達（Elpida）合作研發、產銷最尖端DRAM產品。另一方面，力晶也是日商瑞薩科技（Renesas Technology Corp.）的主要合作夥伴，代工生產多種邏輯與記憶體產品。
為建立技術自主能力，力晶自2005年開始獨力開發高容量快閃記憶體（NAND Flash）技術，為大中華區唯一擁有設計、製程開發、量產NAND Flash全面技術的企業，力晶研發製造的16Gb MLC快閃記憶體產品，更曾榮獲一○○年度經濟部台灣精品獎。
力晶位於新竹科學園區的八吋晶圓廠自1996年開始運轉，投入生產DRAM產品；2002年力晶首座十二吋晶圓廠（P1廠）於正式量產，目前力晶擁有三座總月產能達十萬片的十二吋晶圓廠（P1/P2/P3廠）。2006年12月，力晶與爾必達於台灣中部科學園區合資設立瑞晶電子公司。2008年將八吋廠分割獨立為鉅晶電子(股)公司，進入晶圓代市場；2013年8月，力晶將瑞晶持股售予美商美光（Micron），成功轉型為專業晶圓代工廠，並躋身世界六強之林。
力晶致力於精進技術、服務客戶，以期成為穩定獲利的世界級半導體公司。兼具記憶體與邏輯產品獨特製造實力的力晶，積極耕耘DRAM、Flash、LCD驅動IC、電源管理晶片、CMOS影像感測晶片及整合記憶體晶片（Integrate Memory Chip）等不同應用領域，更推出了Open Foundry營運模式，從晶片設計、製造服務，到設備、產能分享，根據不同客戶的屬性和需求，共同建立緊密、彈性的合作機制。未來，力晶將持續推展國際合作策略、引進尖端科技、開發自主技術、穩健拓展市場，在快速變遷的高科技產業中累積競爭優勢，成為與客戶共創雙贏的專業晶圓代工供應商。
|
|
|
▲TOP
|
|
|
|
1. |
廠內含氮原物料種類及數量 |
|
|
廠內含氮原物料主要可分為氨水、氨氣、TMAH及蝕刻液。
|
|
2. |
執行削減前納管水量及氨氮排放濃度 |
|
|
納管水本廠執行削減前核准納管水量為3,600 CMD，因產能關係實際排放納管水量約為2,400 CMD，氨氮排放濃度介於150 mg/L～200 mg/L之間。 |
|
3. |
計算削減前單位產品含氮原料用量 |
|
|
|
|
|
|
▲TOP
|
|
1. |
含氨氮廢水之分流狀況 |
|
|
|
本廠自102年上半年起，即調查全廠使用含氮原物料的設備機台及各股排水管路流向，開始規劃各股氨氮廢水排水管路分流作業，於102年底前完成發包管路分流工程，103年初開始施工作業，將含有氨氮廢水排水，自既有管路全部分流出來，並新設收集桶槽及排水管路專管收集。各股含氨氮廢水排水分流如下： |
|
(1) |
WET/CMP機台含氨氮排水，全部分流專管收集處理。 |
|
(2) |
Ammonia Scrubber排水，全部分流專管收集處理。 |
|
(3) |
AWL RO concentrate排水，分流專管收集處理。 |
|
|
2. |
減量措施、投資及額度 |
|
|
本廠採用新設置氨氮廢水處理設施，來改善並降低本廠廢水中含氨氮排放濃度，以符合園區納管標準，經過評選及分析各種氨氮處理方法的運轉及操作各項條件，因廠區用地空間不足，以及考量後端二次產物，衍生廢棄物處理問題，故採用氨氮氣提法+觸媒法，其處理效率高且穩定，為本廠氨氮廢水處理方式。
氣提法係利用質傳效應，將水中含氨氮之廢水於鹼性條件下，使pH值>11，利用氣提方式將氨由水相中分離出來，成為氣態氨而去除之。
本廠氨氮處理設施其投資金額約1 億7 仟萬元，另加上TMAH廢水處理投資金額約8 仟萬元，總投資金額約2 億5 仟萬元以上。 |
|
|
|
|
3. |
減量前/後排放濃度、穩定度及成果
|
(1) |
減量前/後廢(污)水氨氮排放濃度：本廠氨氮削減後廢水其穩定度及成果良好，皆可符合納管標準。 |
|
(2) |
符合納管標準及穩定度及成果：本廠自2015/01/01起完成氨氮廢水處理設施設置後，氨氮總污染量由480 kg/天減少至180 kg/天以下。 |
|
|
4. |
相關設施查驗、管理及運作情形 |
|
|
|
(1) |
設施操作、維護機制及狀況：氨提法將氣提塔處理水pH 值操作，控制在pH>10.5~11較佳，較高pH 值環境下，可將液態氨完全轉化成氣態氨，使氨之去除率較佳。由電熱式加熱器加熱，維持氣提塔內操作溫度60~65 ℃，避免氨溶解度增加而降低去除效率，可充分將氣態氨帶出，達到高處理效率。 |
|
(2) |
是否設置即時監控設施或定期採樣檢測：本廠氨氮廢水處理系統於處理水及放流水端，都有設置氨氮分析儀即時監控處理水質，並於放流水端定期委外採樣檢測。
.png)
|
|
(3) |
衍生廢棄物處理情形：本廠採用氣提及觸媒方法來處理氨氮廢水，無衍生二次廢棄物(如硫酸銨)，以及產生之廢棄物處理及清運問題。 |
|
(4) |
環安人員執行績效：本廠包含環安及廠務人員，皆配合公司環保政策及政府環保法令，於102年起研擬並規劃增設氨氮廢水處理設施，並向管理局提出氨氮削減工程改善計畫，103年起開始進行氨氮廢水改善工程，並於103年底完成增設氨氮及TMAH廢水處理設施，104年開始達成氨氮削減目標，符合氨氮削減改善計畫規劃時程，而力晶P3廠同仁皆努力於相關廢水操作及改善氨氮排放濃度，目前皆能符合現階段法規及達到園區納管標準，並為下一階段削減目標來努力達成。 |
|
|
5. |
特殊績效或卓越事蹟 |
|
|
|
(1) |
氨氮處理水回收再利用及節省自來水費及污水費：將低濃度氨氮廢水AWL RO concentrate排水250 CMD，NH3-N 濃度約90~100 mg/L，由氨氮廢水處理系統，設置RO 單元處理後，將處理透過水約200 CMD 回收再使用，處理水質導電度<100 μS/cm，pH>7.5 供給廠內Cooling tower 用水，在抗旱大作戰期間，在節水這部分發揮很大貢獻度。不但達成管理局訂定之節水目標，也達到節省自來水費及污水費之目的。 |
|
(2) |
減少化學藥品使用量：本廠氨氮廢水處理設計化學藥品只使用45 % NaOH，做為調整pH之用，而一般將pH 調整至11 以上，NaOH用藥量會很大，但是本廠設計二段式PID 控制加藥控制系統，以穩定控制來減少過多的NaOH加藥量，以減少加藥成本。目前每日約400 CMD氨氮廢水，每日45 % NaOH 使用量為3.4%x30m3=1.02m3 =1,490 kg/day，單位使用量為3.73 kg/m3；而本廠氨氮廢水處理設計，不須使用到硫酸(H2SO4)化學藥品添加，較其他氨氮處理法(如硫酸銨)使用較少的化學藥品。 |
|
|
|
|
▲TOP
|
|
本廠持續進行氨氮削減為目標，目前可符合現階段園區納管標準75 mg/L以下，規劃於106 年以前達到完全符合納管標準50 mg/L以下，並以氨氮排放濃度30 mg/L以下為目標，將氨氮污染總量由180 kg/天減少至72 kg/天，計畫將部分設備擴充處理量增加，為下一階段氨氮削減目標並努力達成，使處理氨氮廢水排放濃度，皆能符合環保法規及管理局園區納管之規定。 |
|
|
|
▲TOP
|
