力晶科技股份有限公司P3廠

 

力晶科技股份有限公司P3廠
 
公司簡介氨氮負荷主要來源掌握執行氨氮削減具體措施與成果持續削減目標及規劃
 
公司簡介

    力晶於1994年12月創立於新竹科學園區,現為國內外各大半導體業者提供專業晶圓代工服務,擁有4,500位員工,資本額新台幣222億元。
  設立之初,力晶即與日本三菱電機締結技術、生產與銷售的策略聯盟;2003年開始和日本DRAM大廠爾必達(Elpida)合作研發、產銷最尖端DRAM產品。另一方面,力晶也是日商瑞薩科技(Renesas Technology Corp.)的主要合作夥伴,代工生產多種邏輯與記憶體產品。
  為建立技術自主能力,力晶自2005年開始獨力開發高容量快閃記憶體(NAND Flash)技術,為大中華區唯一擁有設計、製程開發、量產NAND Flash全面技術的企業,力晶研發製造的16Gb MLC快閃記憶體產品,更曾榮獲一○○年度經濟部台灣精品獎。
  力晶位於新竹科學園區的八吋晶圓廠自1996年開始運轉,投入生產DRAM產品;2002年力晶首座十二吋晶圓廠(P1廠)於正式量產,目前力晶擁有三座總月產能達十萬片的十二吋晶圓廠(P1/P2/P3廠)。2006年12月,力晶與爾必達於台灣中部科學園區合資設立瑞晶電子公司。2008年將八吋廠分割獨立為鉅晶電子(股)公司,進入晶圓代市場;2013年8月,力晶將瑞晶持股售予美商美光(Micron),成功轉型為專業晶圓代工廠,並躋身世界六強之林。
  力晶致力於精進技術、服務客戶,以期成為穩定獲利的世界級半導體公司。兼具記憶體與邏輯產品獨特製造實力的力晶,積極耕耘DRAM、Flash、LCD驅動IC、電源管理晶片、CMOS影像感測晶片及整合記憶體晶片(Integrate Memory Chip)等不同應用領域,更推出了Open Foundry營運模式,從晶片設計、製造服務,到設備、產能分享,根據不同客戶的屬性和需求,共同建立緊密、彈性的合作機制。未來,力晶將持續推展國際合作策略、引進尖端科技、開發自主技術、穩健拓展市場,在快速變遷的高科技產業中累積競爭優勢,成為與客戶共創雙贏的專業晶圓代工供應商。

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氨氮負荷主要來源掌握

 
1. 廠內含氮原物料種類及數量
  廠內含氮原物料主要可分為氨水、氨氣、TMAH及蝕刻液。

2. 執行削減前納管水量及氨氮排放濃度
  納管水本廠執行削減前核准納管水量為3,600 CMD,因產能關係實際排放納管水量約為2,400 CMD,氨氮排放濃度介於150 mg/L~200 mg/L之間。
3. 計算削減前單位產品含氮原料用量
 
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執行氨氮削減具體措施與成果

1. 含氨氮廢水之分流狀況
 
本廠自102年上半年起,即調查全廠使用含氮原物料的設備機台及各股排水管路流向,開始規劃各股氨氮廢水排水管路分流作業,於102年底前完成發包管路分流工程,103年初開始施工作業,將含有氨氮廢水排水,自既有管路全部分流出來,並新設收集桶槽及排水管路專管收集。各股含氨氮廢水排水分流如下:
(1) WET/CMP機台含氨氮排水,全部分流專管收集處理。
(2) Ammonia Scrubber排水,全部分流專管收集處理。
(3) AWL RO concentrate排水,分流專管收集處理。
2. 減量措施、投資及額度
  本廠採用新設置氨氮廢水處理設施,來改善並降低本廠廢水中含氨氮排放濃度,以符合園區納管標準,經過評選及分析各種氨氮處理方法的運轉及操作各項條件,因廠區用地空間不足,以及考量後端二次產物,衍生廢棄物處理問題,故採用氨氮氣提法+觸媒法,其處理效率高且穩定,為本廠氨氮廢水處理方式。
氣提法係利用質傳效應,將水中含氨氮之廢水於鹼性條件下,使pH值>11,利用氣提方式將氨由水相中分離出來,成為氣態氨而去除之。
本廠氨氮處理設施其投資金額約1 億7 仟萬元,另加上TMAH廢水處理投資金額約8 仟萬元,總投資金額約2 億5 仟萬元以上。
 
3. 減量前/後排放濃度、穩定度及成果
(1) 減量前/後廢(污)水氨氮排放濃度:本廠氨氮削減後廢水其穩定度及成果良好,皆可符合納管標準。
(2) 符合納管標準及穩定度及成果:本廠自2015/01/01起完成氨氮廢水處理設施設置後,氨氮總污染量由480 kg/天減少至180 kg/天以下。
4. 相關設施查驗、管理及運作情形
 
(1) 設施操作、維護機制及狀況:氨提法將氣提塔處理水pH 值操作,控制在pH>10.5~11較佳,較高pH 值環境下,可將液態氨完全轉化成氣態氨,使氨之去除率較佳。由電熱式加熱器加熱,維持氣提塔內操作溫度60~65 ℃,避免氨溶解度增加而降低去除效率,可充分將氣態氨帶出,達到高處理效率。
(2) 是否設置即時監控設施或定期採樣檢測:本廠氨氮廢水處理系統於處理水及放流水端,都有設置氨氮分析儀即時監控處理水質,並於放流水端定期委外採樣檢測。

(3) 衍生廢棄物處理情形:本廠採用氣提及觸媒方法來處理氨氮廢水,無衍生二次廢棄物(如硫酸銨),以及產生之廢棄物處理及清運問題。
(4) 環安人員執行績效:本廠包含環安及廠務人員,皆配合公司環保政策及政府環保法令,於102年起研擬並規劃增設氨氮廢水處理設施,並向管理局提出氨氮削減工程改善計畫,103年起開始進行氨氮廢水改善工程,並於103年底完成增設氨氮及TMAH廢水處理設施,104年開始達成氨氮削減目標,符合氨氮削減改善計畫規劃時程,而力晶P3廠同仁皆努力於相關廢水操作及改善氨氮排放濃度,目前皆能符合現階段法規及達到園區納管標準,並為下一階段削減目標來努力達成。
5. 特殊績效或卓越事蹟
 
(1) 氨氮處理水回收再利用及節省自來水費及污水費:將低濃度氨氮廢水AWL RO concentrate排水250 CMD,NH3-N 濃度約90~100 mg/L,由氨氮廢水處理系統,設置RO 單元處理後,將處理透過水約200 CMD 回收再使用,處理水質導電度<100 μS/cm,pH>7.5 供給廠內Cooling tower 用水,在抗旱大作戰期間,在節水這部分發揮很大貢獻度。不但達成管理局訂定之節水目標,也達到節省自來水費及污水費之目的。
(2) 減少化學藥品使用量:本廠氨氮廢水處理設計化學藥品只使用45 % NaOH,做為調整pH之用,而一般將pH 調整至11 以上,NaOH用藥量會很大,但是本廠設計二段式PID 控制加藥控制系統,以穩定控制來減少過多的NaOH加藥量,以減少加藥成本。目前每日約400 CMD氨氮廢水,每日45 % NaOH 使用量為3.4%x30m3=1.02m3 =1,490 kg/day,單位使用量為3.73 kg/m3;而本廠氨氮廢水處理設計,不須使用到硫酸(H2SO4)化學藥品添加,較其他氨氮處理法(如硫酸銨)使用較少的化學藥品。
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持續削減目標及規劃

  本廠持續進行氨氮削減為目標,目前可符合現階段園區納管標準75 mg/L以下,規劃於106 年以前達到完全符合納管標準50 mg/L以下,並以氨氮排放濃度30 mg/L以下為目標,將氨氮污染總量由180 kg/天減少至72 kg/天,計畫將部分設備擴充處理量增加,為下一階段氨氮削減目標並努力達成,使處理氨氮廢水排放濃度,皆能符合環保法規及管理局園區納管之規定。
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