| 課程名稱 : |
【科管局補助】薄膜製程原理 |
| 課程內容 : |
1.薄膜沈積原理
2.電漿在半導體製程之應用
3.物理氣相沈積原理(包含各種蒸鍍與濺鍍)
4.LPCVD、PECVD、CVD原理等
5.ALD原子層沉積的設備原理簡介
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| 先修課程 : |
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| | 總筆數[ 1 ] 每頁 20 筆，第 頁 / 共 1 頁 | |
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| 上課日期 |
上課時段 |
授課老師 |
報名截止日 |
上課地點 |
報名 |
課程費用 |
| 20100613-20100620 |
每星期(日)9:00~16:00,共二天 |
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20100613 |
新竹市光復路二段101號研發大樓 |
報名已截止 |
1800 |
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經歷背景: 國立臺灣大學 電機工程研究所聯華電子研發處經理華邦電子技術副理世界先進元件發展經理 |
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| | 總筆數[ 1 ] 每頁 20 筆，第 頁 / 共 1 頁 | |
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