 課程名稱 |
【科管局補助】IC/MEMS製程與設計規則 |
| 課程內容 |
1.半導體IC導論 2.製造工藝整合 (光刻,擴散,蝕刻,薄膜) 3.半導體製造process vs.設計版圖layout (FEoL,MEoL,BEoL版圖規則) 4.Chip-level版圖規則: scaling/migration 5.Layout design佈局考量 (DFx:design for X=manufacturing/reusability;PPA: performance power area;ERC:ESD/antenna/EM/latchup) 6.Non-CMOS topics (MEMS,RF,HV,etc) MEMS sensor/actuator; special process (Vs.CMOS); material/process/design collaboration |
| 先修課程 |
| 上課日期 | 上課時段 | 授課老師 | 報名截止日 | 上課地點 | 報名 | 課程費用 |
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| 20200719-20200726 | 09:30~16:30 | 傅宗民顧問 | 20200719 | 清華大學 創新育成大樓(近寶山路與高翠路交叉口) | 報名已截止 | 2500 |